真空鍍膜機液態電漿拋光原理
真空鍍膜機此方法將待拋光工件浸入加熱的電解質水溶液中，并對其施加正極性電壓，該電解液無公害且廉價低濃度,所施加的電壓為直流電壓，工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導電材料。在適當的工作條件下，
真空鍍膜機工件表面會出現穩定的蒸氣氣體層，該氣體層會把被處理表面與電解質水溶液隔開，從而導致表面與電解液蒸氣之間產生強烈的等離子體化學和電化學反應，使被處理表面產生陰極氧化，同時又使陰極氧化層受到化學侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時出現拋光效果，其表現為光潔度上升及反射率提高。當氧化層最薄且又足以抵御侵蝕作用時，
真空鍍膜機其反射率出現最高值。微觀不平處的氧化層最薄，因此侵蝕總是發生在凸起部位。此外，被拋光表面被施加足夠高的電壓后，它和氣體層、蒸氣、電解液之間會產生很高的電場強度，這種強度也在微觀不平處得到強化。這些作用的綜合效果，使表面微觀凸起部位被削平，達到拋光效果。
真空鍍膜機等離子也稱為物質的第四態，是一種電磁氣態放電現象，使氣態粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。真空鍍膜機等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當這些離子達到一定數量的時候可以成為等離子態，等離子態能量很大，當這些等離子和要拋光的物體摩擦時，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果
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