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真空鍍膜和光學鍍膜的區別
作者: 來源: 更新時間:2018-9-19 點擊次數:
單單從膜厚儀測試來說的話,真空鍍膜和光學鍍膜有以下區別:
1、真空鍍膜:一般TiN,CrN,TiC,ZrN,電鍍出來的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設備上測試不出來了;
2、光學鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。
最早的是光控測試,現在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動的頻率來測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。
本文鏈接:
http://www.tedazn.com//news/news691.html
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