1.厚度上的均勻性:也能夠理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的標(biāo)準(zhǔn)上看(也即是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜機的均勻性現(xiàn)已相當(dāng)好,能夠輕松將粗糙度操控在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也即是說關(guān)于薄膜的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有任何妨礙。
2.化學(xué)組分上的均勻性: 即是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于標(biāo)準(zhǔn)過小而很簡單的發(fā)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,假如鍍膜進程不科學(xué),那么實踐外表的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的份額,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技能含量地點。
3.晶格有序度的均勻性: 這決議了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技能中的熱點問題。
關(guān)鍵詞:真空鍍膜機
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