塑料真空鍍膜設備的新進展
塑料真空鍍膜設備的發展相當快，隨著生產率的提高，生產費用大大降低，已經為真空鍍膜產品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例，剛開發時可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達2253mm。基材卷筒的最大卷徑是1000mm，最大卷繞速度750m/min。自動裝卸的半連續卷繞式真空鍍膜機鍍膜時間占整個周期的75%，輔助操作時間只占25%。效率更高的從大氣到大氣的卷繞式真空鍍膜機已于1977年出售。隨著計測技術、控制技術的進步和電子計算機的應用，卷繞式真空鍍膜機正向著高度自動化和高度可靠性的方向發展。
卷繞式真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2μm，可以在這個范圍內選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本專利提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室(6)分為上室(7)，左下室(8)和右下室(9)。蒸鍍時，兩組蒸發源(19、23)蒸發的鍍膜材料(21、25)分別沉積在塑料薄膜(11)上，在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側，裝上輝光放電發生器(15、16)。發生器產生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。
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