真空鍍膜設備 真空鍍膜機蒸發系統
真空鍍膜設備 真空鍍膜機蒸發系統主要指成膜裝置部分，鍍膜機器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發兩種方式作介紹，因為此兩種方式我應用的比較多。
真空鍍膜設備 真空鍍膜機電阻蒸發根據其結構和工作原理是目前為止應用最多，最廣泛的蒸發方式，也是應用時間最長的蒸發方式。它的工作方式是，將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，在鎢舟中央加上藥材，再緩緩給電極通電，電流通過鎢舟，鎢舟通電發熱，這些低電壓，大電流使高熔點的鎢舟產生熱量，
再熱傳導給鍍膜材料，當鎢舟的熱量高于鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發了，此方法由于操作方便，結構簡單，成本低廉，故被很多設備應用，但是其蒸發出來的薄膜由于致密性不佳，加上很多材料無法采用這種方式蒸鍍，所以其有一定局限性。鎢舟蒸發鍍膜材料的時候，材料的熔點必須小于鎢舟的熔點，否則就沒有辦法進行。
真空鍍膜設備 真空鍍膜機電子槍蒸發是到目前為止應用最多的一種蒸發方式，它可以蒸發任何一種鍍膜材料，它的工作方式是：將鍍膜材料放在坩堝里面，將蒸發源制作成燈絲形狀，采用一專門的控制柜，對燈絲加一強電流，高電壓，由于燈絲的材料是鎢，所以它會發熱，到最后會發射電子，再采用一定的磁場將其聚集成一定形狀，并牽引到坩堝上，
這樣就形成了一股電子束，由于電子束溫度非常高，可以熔化任何鍍膜藥材，當鍍膜藥材被電子束熔化后（有些材料是直接升華），藥材的分子（原子或者離子）在真空中成直線運動，然后遇到基板，就凝結下來，經過這種方式生長，形成薄膜！最常用的有將電子束的偏轉角制作成270度，、或者運行軌跡為e型的e行電子槍或者電子束偏轉角180度，運行軌跡為c型的c型電子槍兩種。
真空鍍膜設備 真空鍍膜機電子束蒸發的最大優點在于：電子束的光斑可以隨意調整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發任意鍍膜材料，維修方便，蒸發速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。
濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產品表面凝聚形成薄膜。
真空鍍膜設備 真空鍍膜機用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子槍一樣節約資源。
真空鍍膜設備 真空鍍膜機目前運用最多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作最簡單的一種，所以運用非常廣.
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