【技術領域】
[0001]本發明涉及納米鍍膜設備技術領域，尤其涉及一種納米材料真空鍍膜機。
【背景技術】
[0002]納米防水鍍膜技術廣泛用于航空航天軍工、電路板、磁性材料、傳感器、硅橡膠、密封件、醫療器械、珍貴文物、小家電(豆漿機、電飯鍋、電磁爐、弟Ij須刀、遙控器、空調扇、空調、微波爐等、音響)、數碼(手機、相機、筆記本、平板、耳機、)、衛浴、蓄電池、汽車(電子鑰匙、倒車雷達、充電粧)等領域；能在金、銀、鎢、鈷、鈀等不同金屬表面形成2-10nm厚度左右的鍍層，從而使金屬表面具有良好的耐磨性、防水、導電性能、耐腐蝕、耐高溫、防氧化及改變表面張力等特性，從而提升材料性能，可以全面的改善產品品質。
[0003]現有的鍍膜機具有以下缺陷:1.氣密性不強，影響真空效果，抽真空效果不好，生產效率低；且影響鍍膜效果，制得的成品良品率低；2.鍍膜效果差，薄膜容易從產品上脫落；3.設備機構負責，不便維修；4.只能適用于一些金屬鍍膜材料，易生成有害氣體。
【發明內容】
[0004]本發明的目的在于針對現有技術的不足提供一種納米材料真空鍍膜機，本發明結構簡單、緊湊，密封性強，鍍膜效果好，薄膜不宜脫落，鍍膜材料采用納米材料不會生產有害氣體。
[0005]本發明是通過以下技術方案來實現的，一種納米材料真空鍍膜機，包括用于將鍍膜材料蒸發成氣體的蒸發爐、對氣體進行裂解反應的裂解爐以及對產品進行鍍膜的鍍膜裝置，所述鍍膜裝置包括真空爐、對真空爐內進行抽真空的真空泵以及對真空爐內進行加壓的加壓泵，所述真空爐分別通過管道與真空泵和加壓泵連接，所述蒸發爐、裂解爐和真空爐之間通過管道連通，所述裂解爐和真空爐之間還設置有氣動閥。
[0006]作為優選，所述蒸發爐包括蒸發爐體和密封門，所述蒸發爐體內設置有蒸發室，所述蒸發室內設置有內加熱板，所述內加熱板包括板體，所述板體內設置有加熱絲和第一冷凝管，所述蒸發爐體的外表面設置有外層加熱板。
[0007]作為優選，所述內加熱板包括板體，所述板體由底板和蓋板組成，所述蓋板設置有若干個相互平行的第一槽位，相鄰的兩個第一槽位之間通過第一圓弧槽連通，若干個所述第一槽位和若干個所述第一圓弧槽內均設置有加熱絲；所述底板設置有若干個相互平行的第二槽位，相鄰的兩個第二槽位之間通過第二圓弧槽連通，若干個所述第二槽位和若干個所述第二圓弧槽內均設置有第一冷凝管。
[0008]作為優選，所述底板和蓋板均為鋁合金板。
[0009]作為優選，所述裂解爐包括第一管體，所述第一管體內設置有裂解室，所述第一管體的外部設置有加熱層，所述加熱層的外部設置有保溫層。
[0010]作為優選，所述氣動閥包括閥體，所述閥體的底部設置有進氣口，所述閥體內設置有控制進氣口打開或關閉的閥蓋，所述閥體的外部設置有氣缸，所述閥體的上蓋板設置有一通孔，所述通孔內設置有軸套，所述軸套內設置有第一密封件，所述氣缸的活塞桿依次穿過軸套和第一密封件，并延伸至閥體內與閥蓋固定連接，所述活塞桿的底端設置有壓環，所述壓環與閥蓋固定連接，所述活塞桿的外壁套設有波紋管。
[0011]作為優選，所述真空爐包括真空爐體和爐門，所述真空爐體內設置有工件掛架，還包括用于驅動所述工件掛架轉動的電機，所述真空爐體的底部設置有一通孔，所述通孔內設有第二密封件，所述電機的電機軸穿過所述通孔和第二密封件與工件掛架驅動連接。
[0012]作為優選，所述鍍膜裝置還包括有冷凝回收裝置，所述冷凝回收裝置包括第二管體，第二管體的右端密封，第二管體開設有材料入口和氣體出口，所述材料入口通過管道與真空爐連通，所述氣體出口通過管道與真空泵連通，還包括冷凝器，冷凝器包括設置于第二管體內部的第二冷凝管、與第二冷凝管的左端固定連接的冷凝端蓋，冷凝端蓋的右壁面與第二管體的左端可拆卸連接，所述第二冷凝管的管體設置有螺紋結構。
[0013]作為優選，所述冷凝器還包括與冷凝端蓋的左壁面固定連接的柱狀體，柱狀體開設有深冷接頭，深冷接頭設置有冷卻水入口和回流水出口。
[0014]本發明有益效果:一種納米材料真空鍍膜機，包括用于將鍍膜材料蒸發成氣體的蒸發爐、對氣體進行裂解反應的裂解爐以及對產品進行鍍膜的鍍膜裝置，所述鍍膜裝置包括真空爐、對真空爐內進行抽真空的真空泵以及對真空爐內進行加壓的加壓泵，所述真空爐分別通過管道與真空泵和加壓泵連接，所述蒸發爐、裂解爐和真空爐之間通過管道連通，所述裂解爐和真空爐之間還設置有控制經過裂解反應的氣體進入真空爐內的氣動閥，將納米鍍膜材料放入蒸發爐內蒸發成氣體，再進入裂解爐內進行裂解反應，真空泵對真空爐進行抽真空處理，經過裂解后的氣態鍍膜材料會吸附在產品的表面形成一層薄膜，本發明結構簡單、緊湊，密封性強，鍍膜效果好，薄膜不宜脫落，鍍膜材料采用納米材料不會生產有害氣體。
【附圖說明】
[0015]圖1為本發明的主視圖。
[0016]圖2為本發明的俯視圖。
[0017]圖3為本發明蒸發爐的剖面結構示意圖。
[0018]圖4為本發明內加熱板的剖面結構示意圖。
[0019]圖5為本發明蓋板的結構示意圖。
[0020]圖6為本發明底板的結構示意圖。
[0021]圖7為本發明裂解爐的剖面結構示意圖。
[0022]圖8為本發明氣動閥的剖面結構示意圖。
[0023]圖9為圖8中A處的放大結構示意圖。
[0024]圖10為圖8中B處的放大結構示意圖。
[0025]圖11為本發明真空爐的剖面結構示意圖。
[0026]圖12為本發明冷凝回收裝置的剖面結構示意圖。
[0027]附圖標記為:
I一蒸發爐11一蒸發爐體
12—密封門13—蒸發室 14 一內加熱板141 一底板
1411 一第二槽位1412—第二圓弧槽
142—蓋板1421—第一槽位
1422—第一圓弧槽15—加熱絲
16—第一冷凝管17—外層加熱板。
[0028]2—裂解爐 21—第一管體 22—裂解室23—加熱層
24—保溫層3—真空爐
31—真空爐體32—工件掛架
33—電機34—第二密封件 4 一真空泵
6—氣動閥61—閥體 62—進氣口63—閥蓋
64一氣缸641—活塞桿
65—軸套66—第一密封件
67—壓環68—波紋管
7—冷凝回收裝置71 一第二管體 72—材料入口73—氣體出口 74—第二冷凝管75—冷凝端蓋 76—柱狀體77—深冷接頭。
【具體實施方式】
[0029]下面結合附圖1至圖12，以及【具體實施方式】對本發明做進一步地說明。
[0030]如圖1至圖2所示，一種納米材料真空鍍膜機，包括用于將鍍膜材料蒸發成氣體的蒸發爐1、對氣體進行裂解反應的裂解爐2以及對產品進行鍍膜的鍍膜裝置，所述鍍膜裝置包括真空爐3、對真空爐3內進行抽真空的真空泵4以及對真空爐3內進行加壓的加壓泵5，所述真空爐3分別通過管道與真空泵4和加壓泵5連接，所述蒸發爐1、裂解爐2和真空爐3之間通過管道連通，所述裂解爐2和真空爐3之間還設置有氣動閥6。
[0031]本實施例將納米鍍膜材料放入蒸發爐I內蒸發成氣體，再進入裂解爐2內進行裂解反應，真空泵4對真空爐3進行抽真空處理，經過裂解后的氣態鍍膜材料會吸附在產品的表面形成一層薄膜，本發明結構簡單、緊湊，密封性強，鍍膜效果好，薄膜不宜脫落，鍍膜材料采用納米材料不會生產有害氣體。
[0032]在鍍膜工藝中，需要將鍍膜材料放入蒸發爐里面蒸發變成氣體，然后再進入裂解爐內反應，工作時，蒸發爐內的加熱板一直保持在高溫狀態，時間長的話，加熱板會因承受不了長時間的高溫而出現損壞、使用壽命降低，導致蒸發爐不能正常工作，降低效率，加熱板頻繁的更換也增加了生產成本，如圖3至圖6所示，本實施例中，所述蒸發爐包括蒸發爐體11和密封門12，所述蒸發爐體11內設置有蒸發室13，所述蒸發室內設置有內加熱板14，所述內加熱板14包括板體，所述板體內設置有加熱絲15和第一冷凝管16，所述蒸發爐體11的外表面設置有外層加熱板17，當內加熱板14完成一次加熱后，第一冷凝管16能夠將內加熱板14的溫度迅速降至常溫，延長使用內加熱板14的使用壽命，防止內加熱板14長時間承受尚溫而損壞。
