真空卷繞鍍膜設備的主要技術特征是:
其一,被鍍基材為柔性基材,即具有可卷繞性;
其二,鍍膜過程具有連續性,即在一個工作周期內鍍膜是連續進行的;
其三,鍍膜過程始終在高真空環境中進行。
由以上特征可知:其基本結構必須有卷繞傳動,有卷材(基材)的放卷和收卷。在放卷和收卷的過程中基材被鍍上薄膜。鍍膜部分就是真空卷繞鍍膜設備的工作部。它位于基材的收放卷之間。工作部的工作原理可以是前述的電阻蒸發、感應蒸發、電子束蒸發、磁控濺射或者其它真空鍍膜方法中的任一種。
要維持工作周期內鍍膜過程的連續性,就要求鍍材(沉積材料)足夠多。在蒸發卷繞鍍中就要求有足夠大的坩堝,或者有連續的送料機構;在磁控濺射中要求有足夠大的靶材。要有一個真空的環境,以上裝置需置于一個密封的真空容器中,并有一套真空機組,以維持工作周期內真空度的穩定性。
這樣,一臺典型的真空卷繞鍍膜設備就初具雛形了。當然,在卷繞系統中為保證膜層的均勻性,要做到卷繞系統線速度的恒定;為保證基材的平整度和收卷不跑偏,要做到卷繞系統基材張力的恒定,并要有基材展平裝置。在鍍膜部分須有擋板和水冷裝置,在連續送蒸鍍材料的機構中,送料速度必須實現恒定并可調.
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