多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘，可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產品、醫療器械、儀器儀表等領域。
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備在真空條件下采用物理氣相沉積技術，在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術、柱形靶及磁控油射離子鍍技術有機結合在一起，可單獨使用或同時使用，制取含有連續過渡層的各種膜層。
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備制造簡單，使用方便，運行成本低無污染，經濟效益高。其雙真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大節省投資。該設備主要性能指標如下：鍍膜室極限真空度1.3×10〈’-3〉Pa;抽真空時間(從大氣抽至6.67×10〈’-3〉Pa)≤20min;壓升率1Pa/h;工作周期1h;弧電流60￣90A;弧電壓18￣21V;磁控油射靶功率10￣36kW。該設備已在國內外出售幾十臺套，取得了良好的社會經濟效益。
關鍵詞：鍍膜設備 多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備
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