真空鍍膜的膜層厚度如何測量？
在使用真空鍍膜機鍍膜之后，為了需要可能會要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢?
最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發源，通過PID控制循環驅動擋板，保持蒸發速率。
只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精確度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。
此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
光學監控是高精密鍍膜的的首選監控方式，這是因為它可以更精確地控制膜層厚度(如果運用得當)。
精確度的改進源于很多因素，但最根本的原因是對光學厚度的監控。
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