真空鍍膜設備 真空鍍膜機濺射靶材
真空鍍膜設備 真空鍍膜機濺射靶材（純度：99.9%-99.999%）
真空鍍膜設備 真空鍍膜機金屬靶材
鎳靶（Ni靶）、鈦靶（Ti靶）、鋅靶（Zn靶）、鉻靶（Cr靶）、鎂靶（Mg靶）、鈮靶（Nb靶）、錫靶（Sn靶）、鋁靶（Al靶）、銦靶（In靶）、鐵靶（Fe靶）、鋯鋁靶（ZrAl靶）、鈦鋁靶（TiAl靶）、鋯靶（Zr靶）、硅靶（Si靶）、銅靶（Cu靶）、鉭靶（Ta靶）、鍺靶（Ge靶）、銀靶（Ag靶）、鈷靶（Co靶）、金靶（Au靶）、釓靶（Gd靶）、鑭靶（La靶）、釔靶（Y靶）、鈰靶（Ce靶）、鉿靶（Hf靶）、鉬靶（Mo靶）、鐵鎳靶（FeNi靶）、V靶、W靶、不銹鋼靶、鎳鐵靶、鐵鈷靶、鎳鉻靶、銅銦鎵靶、鋁硅靶NiCr靶等金屬靶材。
真空鍍膜設備 真空鍍膜機陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶，氧化鎂靶、氧化鐵靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、硫化鎘靶，硫化鉬靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、氟化鎂靶，硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶等陶瓷濺射靶材。
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